一、研磨的目的及基本原理
1.目的:(1)去除精磨的破壞層達到規定的外觀限度要求
(2)精修面形,達到圓面規定的曲率半徑R值,滿足面本數NR要求及光圈局部的曲率允差(亞斯)的要求
2.基本原理:通過機械的運動,經過研磨皿,研磨劑與玻璃之間的化學作用,從而達到精度拋光的目的
二、所需治具的種類及用途
1.研磨皿:用來精磨鏡片
2.夾具:用來盛裝鏡片,進行精磨
3.中繼治具:皿具與機臺之間的椄頭,可調節同軸度及高度
4.合皿:用來修復鉆修皿精度
5.鉆修皿:用來修正研磨皿精度,(鉆修皿是由金鋼石鉆石顆粒料貼付而成的曲率面或是走形曲率面,其精度一般為正皿+2條,負皿0~-1條,修復研磨皮之用)
一、 研磨的主要控制點
1. 外觀有無定點、傷痕、砂目、破裂、青蛙皮、腐蝕
2. 面精度的亞斯、垂邊、面本數是否在標準內
3. 研磨量是否在標準內
△ 亞斯----面精度偏差中象散光圈(橢圓、馬鞍形、柱形),局部不規則光圈(中高、中低、垂邊)
△ 中高----當鏡片與原器相接觸時完全吻合,中小光圈過粗,拉邊時中心凸起向內凹,拉邊1/2時,會出現橢現象
△ 中低----當鏡片與原器相接觸時,完全吻合,中心光圈間隙過狹,過密,拉邊時中心凸起向外,接邊1/2時會出現橢現象
△ 腐蝕----通常稱為腐蝕,是光學鏡片表面與外界空氣中的水份或其它物質產生化學反應而造成的塊狀,點狀,霧狀的現象.
