一、研磨的目的及基本原理
1.目的:(1)去除精磨的破壞層達(dá)到規(guī)定的外觀限度要求
(2)精修面形,達(dá)到圓面規(guī)定的曲率半徑R值,滿足面本數(shù)NR要求及光圈局部的曲率允差(亞斯)的要求
2.基本原理:通過機(jī)械的運(yùn)動,經(jīng)過研磨皿,研磨劑與玻璃之間的化學(xué)作用,從而達(dá)到精度拋光的目的
二、所需治具的種類及用途
1.研磨皿:用來精磨鏡片
2.夾具:用來盛裝鏡片,進(jìn)行精磨
3.中繼治具:皿具與機(jī)臺之間的椄頭,可調(diào)節(jié)同軸度及高度
4.合皿:用來修復(fù)鉆修皿精度
5.鉆修皿:用來修正研磨皿精度,(鉆修皿是由金鋼石鉆石顆粒料貼付而成的曲率面或是走形曲率面,其精度一般為正皿+2條,負(fù)皿0~-1條,修復(fù)研磨皮之用)
一、 研磨的主要控制點
1. 外觀有無定點、傷痕、砂目、破裂、青蛙皮、腐蝕
2. 面精度的亞斯、垂邊、面本數(shù)是否在標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)
3. 研磨量是否在標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)
△ 亞斯----面精度偏差中象散光圈(橢圓、馬鞍形、柱形),局部不規(guī)則光圈(中高、中低、垂邊)
△ 中高----當(dāng)鏡片與原器相接觸時完全吻合,中小光圈過粗,拉邊時中心凸起向內(nèi)凹,拉邊1/2時,會出現(xiàn)橢現(xiàn)象
△ 中低----當(dāng)鏡片與原器相接觸時,完全吻合,中心光圈間隙過狹,過密,拉邊時中心凸起向外,接邊1/2時會出現(xiàn)橢現(xiàn)象
△ 腐蝕----通常稱為腐蝕,是光學(xué)鏡片表面與外界空氣中的水份或其它物質(zhì)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)而造成的塊狀,點狀,霧狀的現(xiàn)象.
